第267章 流片成功 文章

次日清晨六点，楚千澜带着周明远、钟长风驱车前往深蓝半导体。

几人刚走进车间，就看到王世杰穿着洁净服站在光刻区外等候，脸上带着熬夜后的疲惫，却难掩兴奋。

见到楚千澜一行人，王世杰立刻迎上来，手里还攥着一份流片准备报告。

“楚总！

所有设备都调试到最佳状态了！

！”

楚千澜接过报告，目光快速扫过关键参数，“准备得很充分，没白费你们熬夜的功夫。

流片流程按计划推进，重点盯紧光刻和蚀刻环节，有任何异常第一时间反馈。”

王世杰重重点头，侧身带着几人走向洁净室，“张北光团队己经在光刻区待命，光学系统的激光功率、曝光时间都按星途eda导出的参数校准完毕，就等您一声令下启动。”

穿过消杀区域，几人走进光刻区。

巨大的光刻机己预热完毕，只等程序启动。

王世杰将提前制作好的掩模版安置好，随后看向了楚千澜。

“按流程启动。”

楚千澜点头示意。

王世杰按下启动按钮，机械臂精准抓起晶圆，缓缓送入光刻腔室。

屏幕上，电路图案在晶圆表面逐步显影。

“楚总，您看这里！”

周明远忽然指着屏幕角落的放大图，语气带着抑制不住的兴奋，“星途eda导出的光刻参数与实际显影效果完全吻合，动态模块的布线拐角处没有出现任何毛刺！”

楚千澜俯身查看，屏幕上的电路图案清晰锐利，电源模块与运算单元的连接线路平滑流畅，没有一处因光刻偏差导致的信号交叉。

他微微颔首：“星途eda对星象指令集的适配效果超出预期，这为后续更复杂的芯片研发打下了基础。”

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