次日，早。
江阳刚刚来到半导体实验室。
京机厂那边。
就送来了j5060通过最终测试的消息。
至此。
他们终于拥有了，能够完成制备，且满足光刻要求硅片的设备。
会议室内。
王寿吾正在对这段时间的研究成果，进行总结。
除开j5060外。
完成了化学机械抛光。
并利用两台显微镜加一个紫外曝光灯，搭建了“土光刻机”
。
虽说只能勉强实现10微米的线宽。
但也能满足最低图形分辨率的须求。
当然。
也不是所有的研究都一帆风顺。
王寿吾道：
“光刻和扩散，是我们现在面临的两大难题。”
“手工光刻误差太大。”
“而开关扩散的掺杂，不仅存在波动，同一晶体管上的阈值电压差异——””
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