在江阳说有简化技术结构的方案后。
王大严又惊又喜。
他没有丝毫怀疑。
立刻将光学系统组的全部研究人员，叫到会议室。
待人到齐。
江阳当即开始阐述新的技术思路。
他参考的。
是帝的kasper2001近接式光刻机。
—掩膜与硅片间隙，固定为25微米，省去精密微调系统。
机械减震，替换气浮平台。
就连光学系统的要求，也大大降低，使用200w汞灯即可。
——
但这些都不是关键。
更重要的是。
材料与工艺的要求降低，允许微米级灰尘，仅需基础洁净室。
看着侃侃而谈的江阳。
台下的王大严。
平生第一次，有了叹为观止的感觉。
虽说简化过后。
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